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2013-05-23 12:21
求翻译：The planarizing photoresist coat for the metal-2 lithography was as much as twice as thick over the small VIA image etched into ILD-3.是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
The planarizing photoresist coat for the metal-2 lithography was as much as twice as thick over the small VIA image etched into ILD-3.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
平坦化光致抗蚀剂涂层的金属- 2光刻是高达两倍厚过蚀刻成ILD - 3的小VIA图像。
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2013-05-23 12:23:18
planarizing光阻剂的涂层为金属平版印刷是2的两倍厚的小图像通过蚀刻在ild-3。
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2013-05-23 12:24:58
planarizing的光致抗蚀剂外套为金属2石版印刷是和两次一样多一样浓厚在小通过图象被铭刻入ILD-3。
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2013-05-23 12:26:38
平坦化的光致抗蚀剂外套金属 2 刻了小 VIA 高达两倍一样厚图像刻 ILD 3。
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2013-05-23 12:28:18
对于金属-2 的平版印刷术的 planarizing 抗照片的外套是多达两次作为拥挤过来小通过图像到 ILD-3 中蚀刻。
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