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2013-05-23 12:21
求翻译：Depth profiling by XPS indicated that the metal-1 sacrificial Ta removal by CF4 + 5% O2 RIE was indeed oxidizing the exposed metal-1 Cu.是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Depth profiling by XPS indicated that the metal-1 sacrificial Ta removal by CF4 + 5% O2 RIE was indeed oxidizing the exposed metal-1 Cu.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
深度剖面通过XPS表明金属-1牺牲钽去除CF4 + 5 ％O 2 RIE法确实氧化暴露的金属- 1铜。
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2013-05-23 12:23:18
深度分析指出,通过XPS1献祭的金属电讯管理局局长的CF4+5%O2氧化除确实是的外露金属1CU。
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2013-05-23 12:24:58
描出由XPS的深度表明金属1牺牲Ta撤除由CF4 + 5% O2 RIE的确氧化被暴露的金属1 Cu。
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2013-05-23 12:26:38
深度的 XPS 分析表明，金属 1 祭祀 Ta 脱除 CF4 + 5 %o2 反应离子刻蚀的确氧化暴露的金属 1 铜。
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2013-05-23 12:28:18
通过 XPS 描的深度表示金属-1 的 sacrificial 由 CF4 + 5% O2 RIE 所作的 Ta 删除确实在使暴露的金属-1 的 Cu 氧化。
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