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  • 匿名
关注:1 2013-05-23 12:21

求翻译:Fig. 4. ILD etching with O2 and CF4. (a) After hard etch mask RIE. (b)是什么意思?

待解决 悬赏分:1 - 离问题结束还有
Fig. 4. ILD etching with O2 and CF4. (a) After hard etch mask RIE. (b)
问题补充:

  • 匿名
2013-05-23 12:21:38
图。
  • 匿名
2013-05-23 12:23:18
图。 4。 ild蚀刻与O2和CF4。 (a)在除蚀刻掩码。 (b)
  • 匿名
2013-05-23 12:24:58
。 4. ILD蚀刻与O2和CF4。 (a) 在坚硬铭刻面具RIE以后。 (b)
  • 匿名
2013-05-23 12:26:38
图 4。ILD 蚀刻与 O2 和 CF4。(a) 后努力蚀刻反应离子刻蚀的面具。() b
  • 匿名
2013-05-23 12:28:18
无花果。4.具有 O2 和 CF4 的 ILD 铜版画。(a) 后面努力地蚀刻面罩 RIE。(b)
 
 
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