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2013-05-23 12:21
求翻译：After exposure ITO layer on DNK, the top mark shift towards down 3.5~4 um; the bottom mark shift towards up 3.5~4 um. Check the blind step result in spec,the minimum value is -0.18 um. asked customer PE provide more data to our Application for MESA layer issue. Will follow the MESA layer issue. released to run PAD laye是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
After exposure ITO layer on DNK, the top mark shift towards down 3.5~4 um; the bottom mark shift towards up 3.5~4 um. Check the blind step result in spec,the minimum value is -0.18 um. asked customer PE provide more data to our Application for MESA layer issue. Will follow the MESA layer issue. released to run PAD laye
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
曝光后， ITO层上DNK ，朝着下降3.5 〜 4微米的顶标移位;
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2013-05-23 12:23:18
伊藤博文曝光后的dnk层,顶部的标记转向下3.5UM;底部向上偏移标记3.5UM。 检查盲步骤导致技术指标,最小值为0.18UM,问客户PE提供更多数据,我们的应用程序层台地的问题。 将按照梅瑟层。释放到运行垫层。
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2013-05-23 12:24:58
在曝光ITO层数以后在DNK，顶面标记转移往下来3.5~4 um; 底下标记转移往3.5~4 um。 检查盲目的步结果在spec，最小值是-0.18 um。 被要求的顾客PE提供更多数据给我们的应用为MESA层数问题。 将跟随MESA层数问题。 发布跑仅垫层数。
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2013-05-23 12:26:38
后上丹麦曝光 ITO 层，顶部标记转向下 3.5 ~ 4 um;底部马克转向了 3.5 ~ 4 微米。检查盲一步结果在规范中，最小值是-0.18 um。问的客户 PE 向我们申请的台面层问题提供更多的数据。将按照台面层问题。为了运行垫层只释放。
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2013-05-23 12:28:18
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