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2013-05-23 12:21
求翻译：我們實驗中採用高純度4N 2吋 鋁靶和高純度的氬氣和氮氣作為反應氣體，在氮氣濃度40%氛圍以溫度400℃,壓力8mtorr功率250W,3小時進行薄膜的生長。是什么意思？ 待解决
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我們實驗中採用高純度4N 2吋 鋁靶和高純度的氬氣和氮氣作為反應氣體，在氮氣濃度40%氛圍以溫度400℃,壓力8mtorr功率250W,3小時進行薄膜的生長。
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
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2013-05-23 12:23:18
We lab with the High purity 4N 2 inch aluminum surfaces and High purity argon gas and nitrogen as reactive gas to the nitrogen gas concentration 40% atmosphere to temperature 400°C, pressure 8mtorr power 250W,3 hours for thin film growth.
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2013-05-23 12:24:58
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2013-05-23 12:26:38
In our experiment using high purity 4N 2-inch aluminum and high purity argon and nitrogen gas, 40% atmosphere to temperatures of 400 ° c in nitrogen concentration, and 8mtorr pressure 250W,3 hours of film growth.
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2013-05-23 12:28:18
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