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2013-05-23 12:21
求翻译：采用微波等离子体化学气相沉积法（MPCVD）技术，在甲烷、氢气和氩气的混合气体中掺入硼烷，在p型（100）单晶硅基片上制备掺硼金刚石薄膜电极。使用扫描电子显微镜（SEM）、激光拉曼光谱仪、x射线衍射仪（XRD）等仪器对所得的样品进行表征，并利用循环伏安法，使用CHI760D电化学工作站检测出掺硼金刚石（BDD）薄膜电极在硫酸溶液、硫酸钠溶液和氢氧化钠溶液中的循环伏安曲线，电极对分析纯吗啉进行降解，以此来探讨掺硼金刚石薄膜电极的电化学特性及应用。实验发现，金刚石薄膜在掺入硼元素后导电性能有很大改变，沉积的薄膜（10mm×10mm）对角两点的电阻只有几十欧。掺硼金刚石薄膜电极还有超过 3V的电势窗口，达到 2.1V的析氧电位。是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
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采用微波等离子体化学气相沉积法（MPCVD）技术，在甲烷、氢气和氩气的混合气体中掺入硼烷，在p型（100）单晶硅基片上制备掺硼金刚石薄膜电极。使用扫描电子显微镜（SEM）、激光拉曼光谱仪、x射线衍射仪（XRD）等仪器对所得的样品进行表征，并利用循环伏安法，使用CHI760D电化学工作站检测出掺硼金刚石（BDD）薄膜电极在硫酸溶液、硫酸钠溶液和氢氧化钠溶液中的循环伏安曲线，电极对分析纯吗啉进行降解，以此来探讨掺硼金刚石薄膜电极的电化学特性及应用。实验发现，金刚石薄膜在掺入硼元素后导电性能有很大改变，沉积的薄膜（10mm×10mm）对角两点的电阻只有几十欧。掺硼金刚石薄膜电极还有超过 3V的电势窗口，达到 2.1V的析氧电位。
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
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2013-05-23 12:23:18
A microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD) technology, the methane, hydrogen and argon gas in the mixture of gases mixed carboranes in P-type (100) single crystal silicon substrate mixture prepared on Boron diamond film electrodes. using scanning electron microscopy (SEM), laser-spectrosco
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2013-05-23 12:24:58
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2013-05-23 12:26:38
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2013-05-23 12:28:18
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