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2013-05-23 12:21
求翻译：Fabricating semiconductor structure, comprises enhancing extent of surface disturbance by e.g. etching semiconductor surface, depositing layer of dielectric masking material, and forming semiconductor layer with reduced surface dislocations是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Fabricating semiconductor structure, comprises enhancing extent of surface disturbance by e.g. etching semiconductor surface, depositing layer of dielectric masking material, and forming semiconductor layer with reduced surface dislocations
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
制造半导体结构，包括通过例如提高地表扰动程度蚀刻半导体表面上，淀积电介质掩蔽材料的层，并形成具有降低的表面位错的半导体层
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2013-05-23 12:23:18
即制造半导体结构，由蚀刻半导体表面包括提高，放置电介质掩没的材料层数和形成与减少的表面脱臼的表面干扰的程度半导体层数
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2013-05-23 12:24:58
制造半导体结构，由即包括提高表面干扰的程度。 蚀刻半导体表面，电介质掩没的材料和形成半导体层数放置的层数以减少的表面脱臼
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2013-05-23 12:26:38
制作半导体结构，例如蚀刻半导体表面、 沉积层介质屏蔽材料和半导体层与减少表面脱位形成包括表面扰动的增强程度
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2013-05-23 12:28:18
制造半导体结构,包括提高程度的干扰,例如表面蚀刻半导体表面、存入层介电屏蔽材料,形成半导体层,减少了表面混乱
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