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2013-05-23 12:21
求翻译:The method permits to adapt the roughness of the substrate according to the needs, thus ensuring better flexibility for provisioning and carrying out a specific roughness surface. The method permits recycling of a negative unibond (RTM: wafer) by adapting their roughness surface to a desired microelectromechan是什么意思?![]() ![]() The method permits to adapt the roughness of the substrate according to the needs, thus ensuring better flexibility for provisioning and carrying out a specific roughness surface. The method permits recycling of a negative unibond (RTM: wafer) by adapting their roughness surface to a desired microelectromechan
问题补充: |
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2013-05-23 12:21:38
该方法允许根据需要来适应基片的粗糙度,从而保证了对配置更好的灵活性,并进行特定的表面粗糙度。该方法允许再循环的负unibond:通过调整其表面粗糙度,以期望的微机电系统(MEMS)的应用程序(RTM晶片),例如绝缘体上硅键合(BSOI)防粘制造一个框架。
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2013-05-23 12:23:18
方法允许根据需要适应基体的坎坷,因而保证更好的灵活性对供应和执行具体坎坷表面。方法允许回收阴性unibond(RTM :薄酥饼)通过适应他们的坎坷表面期望微电动机械的系统(MEMS)即应用结合在框架的绝缘体上硅薄膜(BSOI) antisticking的制造。
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2013-05-23 12:24:58
方法许可证根据需要适应基体的坎坷,因而保证更好的灵活性对物资供应和执行具体坎坷表面。 方法允许回收阴性 unibond (RTM : 薄酥饼) 通过适应他们的坎坷表面期望microelectromechanical系统 (MEMS) 应用即。 保税的硅在绝缘体 (BSOI) antisticking的制造在框架。
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2013-05-23 12:26:38
该方法允许以适应的基板的需求,从而确保更好的灵活性,资源调配和进行具体的粗糙度表面粗糙度。该方法允许回收的消极市怡邦 (RTM: 硅片) 通过适应他们的粗糙度表面到所需的微电子机械系统 (MEMS) 的应用程序如保税硅绝缘子 (BSOI) 在一个框架中的防粘制作。
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2013-05-23 12:28:18
许可证的方法,使其粗糙度的基材的需求,从而确保更好地灵活的配置和执行一项特定表面粗糙度。 许可证的方法回收利用的一个消极unibond[RTM:晶片]使其表面粗糙度对一个所需工艺最终导致微机电系统(MEMS)应用程序,例如绑定的绝缘硅[bsoi]antisticking凭空造出来的一个框架。
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