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2013-05-23 12:21
求翻译：Semiconductor substrate silicon layer strain adjusting method for microelectronic or optoelectronic device, involves identifying regions of strained layer, implanting elements in regions of layer, and annealing substrate with layer是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Semiconductor substrate silicon layer strain adjusting method for microelectronic or optoelectronic device, involves identifying regions of strained layer, implanting elements in regions of layer, and annealing substrate with layer
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
半导体衬底硅层的应变调整方法，微电子或光电子器件，包括确定应变层的区域，在注入层的区域元素，并与层基材退火
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2013-05-23 12:23:18
半导体基体硅调整方法的层数张力为微电子学或光电子设备，在层的地区介入辨认紧张的层的地区，种入元素和锻炼基体与层数
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2013-05-23 12:24:58
半导体基体硅调整方法的层数张力为微电子学或光电子设备，在层的地区介入辨认被劳损的层的地区，种入元素和锻炼基体以层数
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2013-05-23 12:26:38
调整方法的半导体基片硅层应变微电子或光电器件，涉及确定区域的紧张层、 植入区域的图层中的元素和退火基底图层
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2013-05-23 12:28:18
半导体衬底硅层应力调整方法的微电子或光电设备,涉及到确定区域图层的紧张,中的元素植入区域的图层、基材和退火与图层
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