|
关注：1
2013-05-23 12:21
求翻译：Semiconductor for forming solid-state devices comprises substrate including first nitride-based semiconductor layer, pseudomorphic protective layer having thickness less than critical thickness, and second nitride-based semiconductor layer是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Semiconductor for forming solid-state devices comprises substrate including first nitride-based semiconductor layer, pseudomorphic protective layer having thickness less than critical thickness, and second nitride-based semiconductor layer
问题补充： |
|
2013-05-23 12:21:38
半导体形成的固态器件包括衬底包括第一氮化物系半导体层，具有厚度小于临界厚度少赝保护层和第二氮化物系半导体层
|
|
2013-05-23 12:23:18
形成的固体器件半导体包括基体包括第一基于氮化物的半导体层数、有pseudomorphic防护的层数厚度少于比重要厚度和其次基于氮化物的半导体层数
|
|
2013-05-23 12:24:58
半导体为形成固体器件包括基体包括第一基于氮化物的半导体层数、pseudomorphic防护层数有厚度少于比重要厚度和其次基于氮化物的半导体层数
|
|
2013-05-23 12:26:38
半导体形成固态装置包括基体包括第一个基于氮化物半导体层，赝保护层厚度小于临界厚度和第二个基于氮化物半导体层
|
|
2013-05-23 12:28:18
为形成半导体固态设备包括基材包括第一个氮化钛的半导体层、保护层pseudomorphic在厚度小于临界厚度,和第二氮化钛的半导体层
|
湖北省互联网违法和不良信息举报平台 | 网上有害信息举报专区 | 电信诈骗举报专区 | 涉历史虚无主义有害信息举报专区 | 涉企侵权举报专区
