|
关注：1
2013-05-23 12:21
求翻译：The method permits chemical activation of the surfaces at room temperature, during cleaning step carried out before adhering, thus permitting to avoid or to simplify the cleaning step. The method permits to increase storage time duration of the plates between the cleaning step and the cleaning step carried out before a是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
The method permits chemical activation of the surfaces at room temperature, during cleaning step carried out before adhering, thus permitting to avoid or to simplify the cleaning step. The method permits to increase storage time duration of the plates between the cleaning step and the cleaning step carried out before a
问题补充： |
|
2013-05-23 12:21:38
该方法允许在表面的化学活性，在室温下清洗附着之前进行的步骤中，从而使避免或简化清洁步骤。该方法允许以提高清洗步骤和粘合之前进行清洗步骤之间的板的存储持续时间。活化步骤可以被集成到已存在的硅绝缘体上的基板的制造方法中，在一个更好的方式。该方法允许以减少缺陷和两个板中的一个的表面的粗糙度，以提高板间粘附的能量，从而使附着之前，以简化的流线进行表面制备步骤。该方法允许减少传输的缺陷在晶片的边缘，从而允许增加的电子元件是由薄层的质量。
|
|
2013-05-23 12:23:18
方法允许表面的化工活化作用在室温，在遵守前被执行的清洁步期间，因而允许避免或简化清洁步。方法许可证增加板材的存储时间期间在遵守前和清洁步之间的被执行的清洁步。活化作用步可以是联合入已经现有的绝缘体上硅薄膜基体制造方法，以更好的方式。
|
|
2013-05-23 12:24:58
方法允许表面的化工活化作用在室温，在遵守之前被执行的清洁步期间，因而允许避免或简化清洁步。 方法许可证增加板材的存储时间期间在遵守之前和清洁步之间被执行的清洁步。 活化作用步可以是联合入已经现有的硅在绝缘体基体制造方法，以更好的方式。 方法许可证减少表面的瑕疵和坎坷二块板材之一，为了增加紧持能量在板材之间，因而允许简化在流线执行的表面的准备步在遵守之前。 方法许可证减少调动瑕疵在薄酥饼的边缘，因而允许增加电子元件被做薄层的质量。
|
|
2013-05-23 12:26:38
在清洗期间在室温下，表面的化学激活步骤的方法许可证之前进行遵守，从而允许以避免或简化清洗步骤。该方法允许增加存储板清洗步骤和秉承前进行的清洗步骤之间的持续时间。激活步骤可以集成到现有的已经绝缘体上硅基板制造方法，以更好的方式。该方法允许减少缺陷和两个板块之一的表面粗糙度以增加遵守能源板块之间，从而可简化曲面的准备步骤在进行流线秉承之前。该方法允许以减少传输缺陷的硅片，从而能够提高质量的薄层，其中提出了电子元器件的边缘。
|
|
2013-05-23 12:28:18
正在翻译，请等待...
|
湖北省互联网违法和不良信息举报平台 | 网上有害信息举报专区 | 电信诈骗举报专区 | 涉历史虚无主义有害信息举报专区 | 涉企侵权举报专区
