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2013-05-23 12:21
求翻译：Semiconductor-on-insulator structure processing method for fabrication of e.g. memory component, involves covering exposed peripheral part of oxide layer previously before application of thermal treatment是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Semiconductor-on-insulator structure processing method for fabrication of e.g. memory component, involves covering exposed peripheral part of oxide layer previously before application of thermal treatment
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
半导体绝缘体上的如的制造结构处理方法内存部分，涉及到以前的应用热处理前覆盖氧化层的暴露边缘部分
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2013-05-23 12:23:18
存储成份的制造的即半导体在绝缘体结构处理方法，介入以前包括氧化物层的被暴露的周边部分在热量治疗的应用前
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2013-05-23 12:24:58
半导体在绝缘体结构处理方法为制造即。 存储成份，在热量治疗的应用之前早先介入覆盖物氧化物层的被暴露的周边部分
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2013-05-23 12:26:38
半导体上绝缘子结构加工制作的例如内存组件方法涉及到暴露的覆盖边缘部分的氧化层以前前热治疗中的应用
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2013-05-23 12:28:18
半导体绝缘结构处理的方法进行加工,如内存组件,包括涵盖暴露一部分外围设备的氧化层先前在散热治疗的应用程序
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