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2013-05-23 12:21
求翻译：For the flattening of some difficult-to-machine materials, such as 4H-SiC, GaN, sapphire and so on, we proposed a polishing technique named plasma-assisted polishing (PAP), which combines the modification by irradiation of atmospheric pressure water vapor plasma and polishing using soft abrasives [4, 5]. The optical em是什么意思？ 待解决
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For the flattening of some difficult-to-machine materials, such as 4H-SiC, GaN, sapphire and so on, we proposed a polishing technique named plasma-assisted polishing (PAP), which combines the modification by irradiation of atmospheric pressure water vapor plasma and polishing using soft abrasives [4, 5]. The optical em
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
对于一些难加工材料，诸如4H -SiC的，氮化镓，蓝宝石等的扁平化，提出了一种命名为等离子体辅助抛光（PAP）的抛光技术，其通过大气压力水蒸汽的照射结合的变形
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2013-05-23 12:23:18
对铺平一些困难对机器材料，例如4H Sic，淦，等等青玉，我们提出了名为的一个擦亮的技术由等离子协助的擦亮(PAP)，由大气压水蒸气等离子和擦亮辐照区域结合修改使用软的研磨剂[4， 5]。水蒸气等离子光发射光谱显示了从羟基的强的放射，有非常高氧化作用潜力。
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2013-05-23 12:24:58
为铺平一些困难对机器材料，例如4H-SiC， GaN，等等青玉，我们提出了名为由血浆协助的擦亮的PAP的一个擦亮的 (技术)，由大气压水蒸气血浆和擦亮辐照区域结合修改使用软的研磨剂 (4， 5)。 水蒸气血浆光学发射光谱显示了强的放射从羟基，有非常高氧化作用潜力。 并且，它证明，在4H-SiC (0001以后) 基体照耀了与水蒸气血浆，它被氧化了，并且主要氧化作用产品是SiO2哪些是更软的，并且更加容易被去除和粒状材料SiC相比。 在PAP情况下，血浆辐照区域和软绵绵地磨蚀擦亮同时被举办了。
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2013-05-23 12:26:38
针对平坦一些难加工材料如 4 H-碳化硅、 甘、 蓝宝石和等等，我们提出了抛光的方法 — — — 等离子体辅助抛光 （PAP） 相结合的改性辐照的大气压力水蒸气等离子和抛光使用软磨料磨具 [4，5]。水蒸气等离子发射光谱表明一个强大的发射从羟基自由基，有很高的氧化电位。此外，证明了后 4h SiC （0001） 衬底被辐照与水蒸气等离子氧化容易被删除比较散体材料 SiC 和主要的氧化产物是 SiO2，细腻多了。在 PAP，同时进行了等离子体辐照和软的研磨抛光。
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2013-05-23 12:28:18
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