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2013-05-23 12:21
求翻译：Emphasis is placed on achieving a planar copper CMP with a minimum amount of polish stop and polymer ILD erosion, as well as attaining low contact resistance.是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Emphasis is placed on achieving a planar copper CMP with a minimum amount of polish stop and polymer ILD erosion, as well as attaining low contact resistance.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
重点放在实现的平面铜CMP用的抛光停止和聚合物的ILD侵蚀最小量，以及达到低接触电阻。
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2013-05-23 12:23:18
重点放在实现一个平面铜CMP的最小数量的波兰停止和聚合物ild侵蚀、以及实现低触点电阻。
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2013-05-23 12:24:58
重视在达到给予平面铜CMP以一个最低量波兰中止和聚合物ILD侵蚀，并且获得低接触电阻。
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2013-05-23 12:26:38
重点放在实现平面铜 CMP 的波兰站和聚合物 ILD 侵蚀，以及实现低接触电阻的最低金额。
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2013-05-23 12:28:18
重点关于完成对擦亮停止和聚合体 ILD 侵蚀的一个最小数量的一平坦铜 CMP，以及获得低联系电阻被放置。
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