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2013-05-23 12:21
求翻译：In particular, we present and discuss various RIE polymer etch masks and CMP polish stops that have been utilized in this是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
In particular, we present and discuss various RIE polymer etch masks and CMP polish stops that have been utilized in this
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
特别是，我们提出和讨论各种RIE聚合物蚀刻掩模，并已在利用这一点， CMP抛光停止
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2013-05-23 12:23:18
特别是,我们提出并讨论各种除聚合物蚀刻掩码和CMP波兰将停止,已经被用来在这
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2013-05-23 12:24:58
特别是，我们提出并且谈论在这中被运用了的各种各样的RIE聚合物铭刻面具和CMP擦亮剂中止
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2013-05-23 12:26:38
尤其是，我们提出并讨论各种反应离子刻蚀聚合物蚀刻面具和 CMP 波兰站被利用在这
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2013-05-23 12:28:18
尤其，我们礼物和讨论各种 RIE 聚合体蚀刻面罩和 CMP 擦亮停止那在这中被利用了
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