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2013-05-23 12:21
求翻译：The process can be improved by following the hard mask etch with a wet photoresist strip which is selective to the ILD.是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
The process can be improved by following the hard mask etch with a wet photoresist strip which is selective to the ILD.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
该方法可以由以下的硬掩模蚀刻与湿法光刻胶剥离具有选择性的ILD加以改进。
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2013-05-23 12:23:18
这一过程可以通过以下改进硬盘掩码用一条湿蚀刻光阻剂地带,是有选择的,这ild。
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2013-05-23 12:24:58
过程可以经过跟随坚硬面具铭刻改进与是有选择性的对ILD的湿光致抗蚀剂小条。
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2013-05-23 12:26:38
过程可以由以下硬掩模蚀刻与湿光致抗蚀剂地带这是选择性 ILD 改进。
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2013-05-23 12:28:18
过程可以被改善所作随着困难的面罩以对 ILD 是选择性的多雨抗照片的条蚀刻。
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