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2013-05-23 12:21
求翻译：When the photoresist was exposed with the standard exposure dose, photoresist residue was left in the VIA pattern, as illustrated in Fig. 5a,causing problems with VIA cleaning.是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
When the photoresist was exposed with the standard exposure dose, photoresist residue was left in the VIA pattern, as illustrated in Fig. 5a,causing problems with VIA cleaning.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
当光致抗蚀剂被曝光与标准曝光量，被留在VIA图案光刻胶残留物，如图所示。
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2013-05-23 12:23:18
光阻剂时用标准曝光剂量、光阻剂残留物留在通过模式,如中所示图。 5A、导致的问题与通过清洁。
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2013-05-23 12:24:58
当光致抗蚀剂暴露了与标准暴露剂量，光致抗蚀剂残滓在留下了通过样式，如被说明在。 5a，造成问题以通过清洁。
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2013-05-23 12:26:38
当光刻胶暴露与标准曝光剂量时，光刻胶渣被留下 VIA 模式，如图 5a，出现问题，通过清理所示。
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2013-05-23 12:28:18
当抗照片被利用标准暴露药暴露，抗照片的残留物被留下在通过模式，如说明在无花果。5a，导致问题具通过打扫。
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