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  • 匿名
关注:1 2013-05-23 12:21

求翻译:Without using the 100:1 DI:HF VIA clean prior to metal-2 deposition, the specific contact resistance was approximately an order of magnitude higher, ranging from 2.4 ´ 10-8 to 1.8 ´ 10-7 using the worst-case-estimated contact area of twice the design value.是什么意思?

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Without using the 100:1 DI:HF VIA clean prior to metal-2 deposition, the specific contact resistance was approximately an order of magnitude higher, ranging from 2.4 ´ 10-8 to 1.8 ´ 10-7 using the worst-case-estimated contact area of twice the design value.
问题补充:

  • 匿名
2013-05-23 12:21:38
不使用100: 1的DI :HF VIA清洁之前金属-2沉积,固有接触电阻是大小约高的顺序,使用范围从2.4 ' 10-8至1.8 ' 10-7最坏情况-估计
  • 匿名
2013-05-23 12:23:18
不使用“100:1DI:HF之前通过清洁2沉积金属的具体接触电阻是大约一个数量级较高,从2.4到1.8'10 10'使用在最坏情况下的接触面积估计的两倍的设计值。
  • 匿名
2013-05-23 12:24:58
没有使用100:1二:HF通过干净在金属2证言之前,具体接触电阻是近似地数量级更高,两次范围从2.4 ´ 10-8到1.8 ´ 10-7使用设计价值坏情形估计的联系范围。
  • 匿名
2013-05-23 12:26:38
如果不使用 DI:HF 通过清洁前金属 2 沉积 100: 1,具体的接触电阻是大约高数量级,从 2.4 ´ 10 8 10 7 使用设计值的两倍的最坏情况下估计接触面积 1.8 ´。
  • 匿名
2013-05-23 12:28:18
无使用 100:1 DI:HF 通过在金属-2 的沉积物之前打扫,特定接触性抵抗大约是一更高的数量级,从 2.4 ' 10-8 至 1.8 ' 使用两倍于设计价值的最坏的案例估计联系地区的 10-7。
 
 
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