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2013-05-23 12:21
求翻译：The phase identifications and microstructure analysis of the Cr2O3 films deposited on Si wafers, were conducted using an X-ray diffractometer (XRD, D8 ADVANCE) with monochromatic Cu Kα (λ=0.154056 nm) radiation operated at 40 kV and 40 mA. A locked coupleθ-2θmode with a 0.02° step size and a 0.2 s step time was employe是什么意思？ 待解决
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The phase identifications and microstructure analysis of the Cr2O3 films deposited on Si wafers, were conducted using an X-ray diffractometer (XRD, D8 ADVANCE) with monochromatic Cu Kα (λ=0.154056 nm) radiation operated at 40 kV and 40 mA. A locked coupleθ-2θmode with a 0.02° step size and a 0.2 s step time was employe
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
使用X射线衍射（XRD ， D8 ADVANCE ）配有单色的Cu Kα （λ= 0.154056 nm）的辐射，在40千伏和40mA操作进行了相位标识和显微分析沉积在硅晶片上的Cr2O3膜， 。
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2013-05-23 12:23:18
第二阶段的标识和微观结构分析的CR2O3沉积在硅晶片,进行了利用X-RAY diffractometer(xrd、D8提前),单色CU kα(λ=0.154056纳米)的辐射在40kV和40mA。 一个锁定θmode coupleθ2与一个0°步进大小和一个步骤时间0.2s。
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2013-05-23 12:24:58
在Si薄酥饼放置的对Cr2O3影片的阶段证明和微结构分析，使用X-射线衍射计XRD (， D8前进以) 单色Cu Kα λ=0.154056 (nm辐射) 被管理在40千伏和40 mA进行了。 锁着的coupleθ-2θmode以0.02°步长和0.2 s步时光被使用了。
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2013-05-23 12:26:38
沉积在硅晶片上的 Cr2O3 膜的微观结构分析和相鉴定进行 x 射线衍射仪 (XRD、 D8 提前) 用单色铜 Kα (λ = 0.154056 nm) 辐射经营 40 千伏和 40 马。采用锁定的 coupleθ 2θmode 0.02 ° 步长和 0.2 s 步时间。
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2013-05-23 12:28:18
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