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  • 匿名
关注：1 2013-05-23 12:21

求翻译：General way deposition of aluminum nitride films have, DC, RF magnetron sputtering, chemical vapor deposition, molecular beam epitaxy, etc.是什么意思？

待解决 悬赏分：1 - 离问题结束还有
General way deposition of aluminum nitride films have, DC, RF magnetron sputtering, chemical vapor deposition, molecular beam epitaxy, etc.
问题补充：
  • 匿名
2013-05-23 12:21:38
null
  • 匿名
2013-05-23 12:23:18
常规方法的沉积氮化铝的电影已经、直流、射频磁控溅射法、化学气相沉积、分子束磊晶、等。
  • 匿名
2013-05-23 12:24:58
铝氮化物影片的一般方式证言有， DC， RF磁控管飞溅，化学气相沉积、分子束外延等等。
  • 匿名
2013-05-23 12:26:38
一般的方式沉积氮化铝薄膜有，直流，射频磁控溅射，化学气相沉积法、 分子束外延等。
  • 匿名
2013-05-23 12:28:18
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