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关注：1
2013-05-23 12:21
求翻译：When Ta was used as a polish stop, a CF4 + 5% O2 RIE step was used to remove the excess Ta.是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
When Ta was used as a polish stop, a CF4 + 5% O2 RIE step was used to remove the excess Ta.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
当Ta用作抛光停止，一CF 4 + 5 ％O 2的RIE步骤来除去过量的钽。
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2013-05-23 12:23:18
电讯管理局局长时被用作一个波兰停止,CF4+5%O2步除用于去除多余的电讯管理局局长。
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2013-05-23 12:24:58
当使用了Ta，当波兰中止， CF4 + 5% O2 RIE步用于去除剩余Ta。
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2013-05-23 12:26:38
当塔被用作波兰站，CF4 + 5 %o2 反应离子刻蚀步骤用于删除多余的 Ta。
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2013-05-23 12:28:18
Ta 用作擦亮停止时，一 CF4 + 5% O2 RIE 步骤用于撤销过多的 Ta。
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